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首頁-企業(yè)新聞-光譜橢偏儀的基本原理

光譜橢偏儀的基本原理

更新時(shí)間:2023-05-10       點(diǎn)擊次數(shù):897
  光譜橢偏儀(Spectroscopic Ellipsometer)是一種用于研究材料光學(xué)性質(zhì)的工具,其原理基于材料對(duì)不同偏振方向的入射光反射率的差異。通過測量材料對(duì)不同波長和偏振態(tài)的光反射率,可以獲得關(guān)于材料光學(xué)常數(shù)、厚度、表面形貌等信息。主要用于測量材料在不同波長下的旋光性質(zhì)和線偏振性質(zhì),可以研究分子結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵和對(duì)稱性等信息。
 
  主要由光源、偏振器、樣品架、檢測器、計(jì)算機(jī)等部分組成。
 
  在測量過程中,先通過偏振器產(chǎn)生線偏振光,然后將其垂直或平行地入射到樣品表面。樣品反射回來的光被檢測器接收,并轉(zhuǎn)換為電信號(hào)傳輸?shù)接?jì)算機(jī)進(jìn)行處理。根據(jù)光的反射率隨波長和偏振態(tài)的變化規(guī)律,可以計(jì)算出樣品的復(fù)折射率和復(fù)吸收系數(shù),從而得到其光學(xué)性質(zhì)的詳細(xì)信息。
 

光譜橢偏儀

 

  光譜橢偏儀具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,如半導(dǎo)體、涂層、生物醫(yī)學(xué)等。其中,在半導(dǎo)體工業(yè)中,它可以用于表征晶片表面的光學(xué)性質(zhì),以及薄膜材料的生長過程和熱處理等對(duì)其光學(xué)性質(zhì)的影響。在涂層領(lǐng)域中,它可以用于研究涂層材料的折射率、厚度以及表面形貌等信息,以優(yōu)化涂層工藝和改進(jìn)涂層性能。在生物醫(yī)學(xué)方面,它可以用于分析生物分子的構(gòu)型和結(jié)構(gòu),以及研究生物分子與其他物質(zhì)之間的相互作用。
 
  總之,光譜橢偏儀是一種強(qiáng)大的工具,可以提供關(guān)于材料光學(xué)性質(zhì)的詳細(xì)信息,對(duì)于許多領(lǐng)域的研究和應(yīng)用都有著重要的意義。它在化學(xué)、物理、生物學(xué)等領(lǐng)域的研究中具有廣泛應(yīng)用,如藥物分析、光電子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等方面。

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